提高氣隙擊穿電壓一般有兩種途徑：改善電場分布，使之均勻化；設(shè)法削弱或抑制氣體介質(zhì)中的電離過程。

改善電場分布的措施
（1）改變電極形狀
增大電極曲率半徑：如采用屏蔽罩、擴徑導線等增大電極曲率半徑以減小zui大場強；
改善電極邊緣形狀：電極邊緣做成弧形，或盡量使之與等位面相近，以消除邊緣效應；
使電極有*外形：電場優(yōu)化

利用空間電荷對原電場的畸變作用
例如利用電暈放電產(chǎn)生的空間電荷來改善極不均勻場間隙中電場分布，從而提高間隙的擊穿電壓。
但應該指出，上述細線效應只存在于一定的間隙距離范圍之內(nèi)，間隙距離超過一定值，細線也將產(chǎn)生刷狀放電，從而破壞比較均勻的電暈層，使擊穿電壓與尖－板或尖－尖間隙的相近了。另外，此種提高擊穿電壓的方法僅在持續(xù)作用電壓下才有效，在雷電沖擊電壓下并不適用。

電壓擊穿試驗儀 工頻擊穿電壓試驗儀 電氣強度試驗儀

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